一口气了解：顶级光刻机背后的5大巨头，难怪华为造不出来

抖音快讯 2025年07月17日 05:01 2 admin

以目前最先进的阿斯麦尔High NA EUV为例，下半年台积电就要靠这台180吨的巨无霸，量产2纳米芯片，代价是一台就要27.55亿元和一天3万度电。整台机器的上千万个零部件来自全球118个国家的，5000多家供应商。所以能成为EUV的供应商，绝对是一件光宗耀祖的事。

今天就来一口气看完，EUV背后的5大核心供应商，感受其中无与伦比的精妙设计。

EUV工作原理是利用激光将光掩模版的电路图投射到晶圆的光刻胶上，其实就是一台兼具印刷功能的投影仪。但是2纳米制程让这台投影仪的分辨率高达上百亿像素，目前只有13.5纳米的极紫外光能做到这么精细。

极紫外线：美国Cymer

首先激光发射器每秒射出10万束激光，两束一组，天衣无缝地击中5万滴锡液，锡液气化产生等离子云就形成了EUV的光源。其中锡液喷嘴的供应商，是被阿斯麦尔收购的美国西蒙科技，而射出10万束激光的激光器重达17吨，含有457329个部件。

EUV光源的真正面目是德国光学工业的大成之作，这每秒10万束的激光来自德国通快的30KW，极高功率CO2红外激光，通快凭借独步天下的激光技术，才让其机床在钣金切割领域独领风骚。

接下来等离子云发出的光包含各种波长，过滤无效波长的任务就交给EUV高精度弧形反射镜系统，这背后的两大供应商均来自德国。

这些反射镜片是全球最光滑的人造物体，只能来自德国蔡司。如果把韦伯望远镜的镜片放到海南岛大小，起伏误差是20毫米，但是这套反射镜面的起伏不会超过1毫米，这下我才知道蔡司的研磨机床有多牛。

但真正吸收无效波长的是镜片上超40层，且每层厚度不足4纳米，误差不超0.05纳米的镀膜。由德国弗劳恩霍夫应用光学与精密机械研究所提供。这是一家每年科研经费十亿欧元，也是欧洲最大的公益学术机构，专门为德国中小企业解决技术难题。

作为总装厂，阿斯麦尔自己就是EUV的第五大供应商，负责提供超高精度真空双工件台，因为光源不能移动，就需要晶圆主动配合接受投影，移动速度直接决定了芯片产能，目前最先进的EXE 系统，晶圆台加速度能达到8个G，而EXE 的十字线阶段的加速度直接飙到32个G，相当于百公里加速 0.09 秒。

这就是一台EUV最为核心的五家供应商，也是中国国产光刻机最难突破的五大关键领域。

但这也只是芯片制造流程中十分之一的工序，其余上下游工艺没有一个是泛泛之辈，从用美国EDA设计电路图，到日本工厂提供单晶硅和光刻胶，再送到阿斯麦尔的EUV进行曝光，紧接着进入东京电子提供的涂胶烘焙显影一体机，重复蚀刻晶圆构建数十层电路，最后送到日月光进行封装，到这里才能算是一枚合格的芯片。

这背后每一步都是一道道无法逾越的技术壁垒，全球没有一个国家能够独立完成，所以这条自研之路几乎不可能实现。

但天无绝人之路，中芯国际利用老款的DUV，在一块电路板上进行三次重叠曝光，也能获得7纳米制程芯片，虽然成本更高产能受限，但是依然为国内不少科技企业解决了燃眉之急，或许在摩尔定律到头之后，量子芯片能为我们带来弯道超车的机会。

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