国内半导体光刻胶企业汇总（附企业名单）

抖音推荐 2025年07月27日 13:10 1 admin

失效分析赵工半导体工程师 2025年05月28日 11:02 北京

光刻胶是一种临时涂布在硅片表面的感光材料，在一定波长的光源照射下，可以将掩膜版上的图形转印到硅片表面。光刻胶形成的图形作为阻挡层，用于实现选择性的刻蚀或者离子注入

光刻原理与我们日常使用相机进行摄影的原理类似。如果把光刻机类比为照相机，那么光刻胶就是类似相机胶片的感光材料，能将镜头所对准的影像转移到塑胶底片上并最终在相纸上显像出来。

与胶片感光材料不同之处在于，光刻胶只对紫外线感光，对可见光不敏感，对光的色彩和灰度也不灵敏。所以，光刻胶使用上并不需要类似冲洗胶片的暗室。由于光刻胶对黄光不感光，所以半导体光刻工艺车间都使用黄光照明，就是所谓的黄光区。

国内半导体光刻胶企业汇总（附企业名单）

光刻胶是针对曝光光源的波长来设计的，波长的减小是提高光刻分辨率最有效的途径。集成电路制造用光刻胶，按照曝光光源波长从长到短，可以分为紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV等6个主要种类。

集成电路光刻胶种类

及对应制程工艺

国内半导体光刻胶企业汇总（附企业名单）

资料来源：苏州瑞红整理

光刻胶的性能主要通过灵敏度、对比度、抗刻蚀性、分辨率等指标来衡量。

需要强调的是，光刻胶的研发与评估使用分属于两个不同的领域。前者是材料研发，后者是光刻工艺。一种光刻胶的好坏，并不能简单的以各个指标的绝对值进行判断，而是必须经过充足的光刻工艺评估，综合评价各指标与客户需求的匹配性。

在实际研发与光刻工艺评估过程中，光刻胶的各性能指标往往需要根据客户的应用需求进行调整。因此，光刻胶厂商在一个型号或者一个系列的光刻胶目录下，有十几个甚至几十个品种，以满足不同客户的需求。

国内半导体光刻胶企业汇总（附企业名单）

资料来源：崔铮《微纳米加工技术及应用》2020，苏州瑞红整理

以下是我们整理的国内半导体光刻胶企业，若有遗漏，可留言补充。

国内半导体光刻胶企业汇总（附企业名单）

来源：半导体在线

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