华为董事：能解决7nm就很好了，5nm肯定不行，但我们要走另一条路

热门资讯 2025年09月02日 16:18 1 admin

前沿导读

华为公司常务董事、华为云CEO张平安先生在中国移动算力网络大会上面表示：

高制程的光刻机是不允许被进口到中国的，那中国想要生产出高性能的芯片，直接用ASML的EUV光刻机这条路是行不通的。我们能解决7nm就已经非常非常好了，5nm和3nm肯定得不到。

那未来我们的创新方向，不应该在单点的芯片工艺上，应该在系统架构上。充分发挥我们能源的能力，我们希望用空间、用带宽、用能源，来换取中国在芯片上面的缺陷。

美国在2020年对荷兰政府施压，封锁了EUV光刻机的对华出口。从2020年开始，中国大陆的任何芯片企业均不能获得来自于ASML的EUV设备，包括韩国企业在中国大陆建设的合资工厂。

芯片制造涉及的产业链众多，其核心的制造设备包括了光刻机、刻蚀机、离子注入机等九大高精度设备，缺少其中的任何一种，都是无法完成制造的。中国企业在后端设备上面具有较强的自主可控性，但是在前端的光刻机产业上，存在明显的短板。

已经公布的国产光刻机，最先进的设备为干式技术，其镜头分辨率为65nm，无法制造7nm及以下的先进芯片。

芯片的研发费用与制程工艺的发展呈指数级增长，根据台积电在媒体平台表示，28nm芯片的整体研发费用在5000万美元以上，14nm是1亿美元，7nm是2.9亿美元，5nm是5亿美元，3nm芯片的成本将近10亿美元。

在7nm及以下制程的芯片当中，单是光刻机这一项设备的采购价格，就来到了1.2亿美元左右。设备越先进，其整体的售价就会越高。

以上的价格还只是产品在量产商用阶段的价格，具有一定的供应链优势。如果只说设备研发的资金投入，那么这个数值是一个天文数字。

光是为了解决镜头问题，ASML就花费了20亿美元的资金入股了德国蔡司公司。从EUV技术开始立项，到EUV光刻机正式投入生产线制造芯片，总共花费了20余年的时间。

解决光刻机被卡脖子的问题，不但需要大量的人力和财力的投入，还需要长时间的技术磨合，无法在短短几年内完成整体的设备开发并进入商用阶段。

张平安先生对于当下的情况有一个清晰的认知思路，我国在芯片制程工艺的发展上面需要打持久战，不能急于求成。既然芯片的硬件水平被暂时封锁在7nm节点，那么就可以在系统架构上面进行调整。让芯片内部的设计架构与产品的系统优化相匹配，实现性能与能效的双重进步。

为了推动我国芯片产业全方位发展，我国国家部门针对于特定的企业实行税收优惠政策。

其中包括了负责28nm以上，及28nm以下芯片制造的代工企业、存储器企业、先进封装企业、在关键原材料以及零配件上面生产制造的企业。

这些企业基本覆盖了芯片产业链的所有环节，只要涉及这些环节研发的企业，在符合国家要求的情况下，通过国家部门的审核，可以获得专门的政策扶持。

参考资料：国家税务总局政策法规库

这种在政策层面对相关企业进行的特殊扶持，也表现出国家对于掌握自主可控芯片技术的决心以及自信心。

依靠芯片技术的发展，现在又爆发了ai产业。

ai产业是当下国际技术竞争的核心产业，不只是涉及到高算力的芯片，还需要涉及到电力供应、基础设施建设、大规模的民用市场等多个环节。

美国禁止中国企业获得来自于英伟达的算力芯片，但是在中国企业推出多款ai芯片后，美国又宣布允许英伟达将中国特供版的H20芯片销售给中国，抢占中国市场，压制中国本土ai芯片的使用率。

与此同时，美国宣布大搞电力设施的基建产业。美国在这些年当中建设了不少用于人工智能领域的数据中心，这些数据中心已经对美国本土的电力供应造成了极大负担，甚至影响了美国群众的日常生活。

而中国的基础建设完善，电力供应稳定，最关键的是中国地域辽阔，并且绿色资源丰富，可以满足科技产业的用电需求。这也对应了张平安先生所说的，用能源来换取中国在芯片上面的缺陷。

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