美国万万没想到，打压之下，我们反而突破5nm芯片了

游戏天地 2025年08月18日 22:46 1 admin

大家都清楚，最近几年，美国一直在打压中国芯片的芯片产业。

而打压的办法，主要就是限制先进半导体设备、限制GAAFET晶体管技术，限制AI芯片，限制先进EDA等。

目的很简单，其实就是让我们买不到先进芯片，同时自己也造不出先进芯片，这样先进的芯片就只能从美国购买，这样美国就卡住了脖子了。

而要解决这些问题，其中最核心的一环，就是先进芯片制造能力，因为一旦我们能够自己制造先进芯片，那么这些限制就都不问题了。

那么什么样的芯片，才算先进芯片呢，按照常规定义是28nm以下，但因为我们自己早就能造了，实际真正限制的，主要还是7nm以下的能力，也就是5nm、3nm、2nm这些。

为此，美国绝不允许ASML将EUV光刻机卖给我们，因为大家都认为制造这些芯片，需要EUV光刻机。

但是，让美国万万没想到的是，他不想让我们掌握的技术，我们偏偏掌握了，7nm等效工艺就不用说了，这个关注芯片产业的人都清楚，我们早就可以搞定了。

最核心的是还是5nm，而最近有博主爆料称，事实上我们也搞定了5nm，只是前期产能不太高，良率也不太高，具体是采用浸润式DUV，进行多重曝光工业，导致成本相对较高，良率较低。

但经过了很长时间的测试调整，目前良率已经非常不错了，已经达到了60-70%左右了，预计今年下半年，可能产能会持续提升，会有国产的AI芯片，国产的Soc推出，基于等效5nm工艺。

一旦5nm的芯片大规模量产，良率还可控，你说我们还有什么芯片不能制造，还能卡住我们的脖子么？很明显，不太可能了，因为只要能制造5nm芯片，几乎就可以制造90%以上的芯片了。

虽然还是不如3nm、2nm，但特别多的芯片，并不需要3nm、2nm这样的工艺，目前的芯片工艺更多都是等效工艺，实际差距在5nm之下时，一代与一代之间，甚至2代之间都并不大了。

可能很多人不太相信，没有EUV，凭什么制造5nm？其实真可以的，浸润式光刻机之父林本坚之前就说过，其实浸润式DUV光刻机，其实没有极限，只要多重曝光控制好，可以制造3nm\2nm都行的，只是效率低一点而已。

所以，接下来，就让我们期待一下，国产5nm工艺，会给全球芯片产业格局，带来什么样的变化，又给中国芯注入什么样的催化剂和活力了。

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