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2025-08-18 0
中国光刻机再突破！哈工大发力，欧美专家傻眼，比预期快至少5年
健康生活
2025年08月18日 08:25 1
admin
文|肉肉
信息源：本文陈述所有内容皆有可靠信息来源赘述在文尾
“即便给图纸，中国也造不出来EUV光刻机。”
美国科技公司的一句话，深深刺痛着中国工程师的心。
为此，中国工程师废寝忘食的研究芯片技术。
直到哈工大的一则近况流出，我国光刻机的技术迎来历史性的突破。
而这新技术的诞生，直接让国际社会傻眼了！
芯片之争
科技发展到现在，各个大国之间的较量，那是相当的激烈。
别的不说，就光看美国那一长串对我国企业的制裁名单，简直是把各行各业给包含进去了。
像大家最熟知的华为、小米等企业，这都是从新闻上能够看到的。
网友还曾调侃，我国的企业厉不厉害，就看他有没有上美国的制裁名单。
虽说这是一句玩笑话，但是能够让美国列入这样的名单，足以见得他是在担心这些科技公司的发展问题。
除了这些企业之外，国内的一些研究院、大学等更是他们的首要目标。
像大家最熟悉的哈工大，就位列其中。
从这些地方出来的学子们，都是为了更好的发展国家的科技、军事等领域。
不管是哪方面的问题，最主要的还是科学技术。
如今在国际社会上，芯片是最为重要的。
前不久美国宣布对我国提高关税，进行制裁的时候，出现这么一条新闻。
美方政府要求英伟达公司，不得向我国出口芯片。
这话一出口，英伟达的收益可是受到了影响。
有媒体曾统计过，英伟达出口中国的收入可是占了不少比例的。
后来，黄仁勋不是立马来到我国了。
光从这一点，我们就能看出来，芯片对于一个国家的重要性。
尤其是美国一制裁，就会借着芯片来发挥。
每当这一时候，都让我国的科技界感到又屈辱又生气。
曾经，荷兰的科技巨头公司ASML的CEO就曾说，我国制造不出来光刻机。
日本的公司也来凑热闹。
但恰恰是这些外界的打压，让我国科研人员潜心研究、埋头苦干。
在这样的努力之下，我国的芯片迎来了一次又一次的突破。
尤其是最近哈工大的一条讯息，让全网都沸腾了。
传来好消息
哈工大这几个字的含金量不用多说。
有网友就调侃，在这个学校上学意味着“失联”。
对外说是搞电焊的，没想到是搞航母的焊接。
这调侃虽然搞笑，不过这也反应了他们的研究放心，有多么的重要。
早在2022年，哈工大的团队就在研究DPP光源样机。
这个东西简单来说就是研究DPP EUV光源的设备。
也就是用在验证极紫外光刻技术上的。
这个技术就是用于制造芯片上。
先进的芯片技术一直掌握在欧美国家中，对于我国来说，研究EUV这些东西，意味着花费时间和精力会更多一点。
在科研人员的努力下，仅仅一年，这个样机就成功被点亮。
在今年的一月份，哈工大官网就公布了一个消息。
学校正在研究的两项项目，获得了科技创新成果转化大赛的一等奖。
其中，“放电等离子体极紫外光刻光源”这个项目备受网友关注。
这个放电等离子体就是我们前面说的DPP。
如果没有样机的问世，那么就不会有后面这个成果的展示。
在文章中，哈工大提到，这个项目可以提供13.5nm的极紫外光。
这个波长的光源，正好是现如今光刻市场，特别急需的核心技术。
同时也是光刻机系统里面，最难攻克的一部分。
如果掌握了先进的光源技术，那么研发光刻机的速度会大幅度加快。
根据媒体报道，如果这个技术被广泛运用，那么在研发上，至少会缩短两到三年的研发周期。
一般传统的EUV光刻技术LPP，他的过程比较复杂。
中间需要高能量激光器的帮助，才能产生需要的等离子体。
但是哈工大直接采用的是LDP技术。
就是将少量的锡汽化成云状物，然后再通过两个电极去施加高压，将这些锡云去转化成等离子体。
就是在锡和电子的碰撞并且辐射的过程中，直接产生极紫外光。
这两个方法对比起来，后者的效率更高，成本也更低。
现如今世界上，就只有ASML这家公司，能够生产相应的EUV光刻机。
但是海外的公司对于我国市场来说，会有禁售等相应的政策。
这就导致我国的有关企业，在生产7纳米以下的芯片上有很大的困难。
哈工大研究的这个光源焦点功率在43瓦。
ASML发布的两代光刻机的光源功率在250瓦到500瓦。
虽说两者有一定的差距，但是在使用的技术方面有很大的不同。
哈工大的研究技术会更复杂一点。
当然ASML的LPP技术是人家的专利，我们也算是弯道超车。
虽说我们和国际的顶尖公司还有一点的差距，但追赶上去只是时间的问题。
尤其是在相关项目的研发上，已经有投资公司和哈工大合作。
除了哈工大之外，国内其他的高校也在相应的领域有着明显的进展。
像清华大学的稳态微聚束光源，可以为光刻机提供更高功率的光源。
北京航工航天大学研究的“三元计算芯片的架构图”，则是在芯片设计领域。
这些看起来是比较分散的技术，但对于我国发展半导体产业有很大的帮助。
结语
如今我们实现了一个技术的突破，后面还会有更多。
在科研人员的努力下，我国的科技一定会快速发展，走出来一条独属于自己的路。
在未来，中国创造会越来越好！
信源来自：个人账号 哈工大攻破光刻机13.5纳米极紫外光源新闻视频片段
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