广州美维电子申请一种曝光机检查方法专利，能够准确、高效地评估曝光机的开窗稳定性及各DMD描画头的性能

健康生活 2025年08月08日 20:28 1 admin

金融界2025年8月7日消息，国家知识产权局信息显示，广州美维电子有限公司申请一项名为“一种曝光机检查方法”的专利，公开号CN120428524A，申请日期为2025年04月。

专利摘要显示，本发明涉及电路板制作技术领域，公开了一种曝光机检查方法，包括以下步骤：S1准备光铜板，对其进行预处理后将阻焊油墨丝印到光铜板上形成阻焊板；S2在阻焊板张贴多个曝光尺；S3使用待检查的曝光机，按预设的曝光图形对光铜板进行曝光；将阻焊板上张贴曝光尺的区域限定为盖油区域，描画区域与盖油区域间隔设置，描画区域包括至少四个描画分区；各描画分区均包括多个标记区；S4取下曝光尺，用显影液进行显影，显影后进行目视检查，确认异常DMD描画头位置；S5采用3D测量仪器对显影后的第四描画分区进行测量。

天眼查资料显示，广州美维电子有限公司，成立于2006年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本84942.9033万人民币。通过天眼查大数据分析，广州美维电子有限公司参与招投标项目211次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息299条，此外企业还拥有行政许可148个。

本文源自金融界