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2025-08-08 0
长鑫新桥申请曝光装置和光刻设备专利，阻挡曝光光线散射到待曝光晶圆非曝光区域
游戏天地
2025年08月08日 03:22 1
admin
金融界2025年8月7日消息，国家知识产权局信息显示，长鑫新桥存储技术有限公司申请一项名为“曝光装置和光刻设备”的专利，公开号CN120428522A，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，本公开实施例提供一种曝光装置和光刻设备。曝光装置包括：光罩和晶圆承载台；所述光罩包括透光区域和遮光区域，所述晶圆承载台用于承载待曝光晶圆；光学模块，所述光学模块用于提供曝光光线，使得所述曝光光线穿过所述透光区域照射至所述待曝光晶圆的曝光区域上；设置在所述光罩和所述晶圆承载台之间的挡光部件，用于在所述曝光光线发生散射时阻挡所述曝光光线散射到所述待曝光晶圆的非曝光区域上。
天眼查资料显示，长鑫新桥存储技术有限公司，成立于2021年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5395371.51069万人民币。通过天眼查大数据分析，长鑫新桥存储技术有限公司参与招投标项目143次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息26条，此外企业还拥有行政许可25个。
本文源自金融界
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