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2025-08-13 0
武汉拓扑晶延半导体申请半导体结构专利，提高器件开口率
百科大全
2025年08月07日 21:05 1
admin
金融界2025年8月7日消息，国家知识产权局信息显示，武汉拓扑晶延半导体科技有限公司申请一项名为“半导体结构”的专利，公开号CN120435136A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本公开涉及一种半导体结构，半导体结构包括基底，位于基底上阵列排布的像素单元，以及公共电极；公共电极环绕像素单元，并与像素单元相连接；公共电极包括第一公共电极、第二公共电极及第三公共电极；第一公共电极沿第一方向与第二方向延伸；第二公共电极沿第一方向与第一公共电极交替间隔排布，并沿第二方向延伸；第三公共电极沿第二方向与第一公共电极交替间隔排布，并沿第一方向延伸。
天眼查资料显示，武汉拓扑晶延半导体科技有限公司，成立于2022年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉拓扑晶延半导体科技有限公司财产线索方面有商标信息4条，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自金融界
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