光峰科技申请二维光栅制备方法等专利，实现光栅结构参数变化的二维光栅制备

抖音热门 2025年08月02日 12:08 2 admin

金融界2025年8月2日消息，国家知识产权局信息显示，深圳光峰科技股份有限公司申请一项名为“二维光栅制备方法、干涉式曝光系统及二维光栅”的专利，公开号CN120405820A，申请日期为2024年01月。

专利摘要显示，本申请公开了一种二维光栅制备方法、干涉式曝光系统及二维光栅，涉及光栅制造技术领域，方法包括：在所述曝光基板处于第一位姿的情况下，通过所述干涉曝光场以第一曝光剂量对所述曝光基板沿第一方向进行曝光；在所述曝光基板处于第二位姿的情况下，通过所述干涉曝光场以第二曝光剂量对所述曝光基板沿第二方向进行曝光，以得到二维光栅。因此，通过使干涉曝光场在曝光基板的至少一处曝光位置上所具有的第一曝光剂量与第二曝光剂量不同，使最终获取的二维光栅在对应于曝光位置的光栅结构具有旋转角，从而与曝光基板上其他第一曝光剂量与第二曝光剂量相同的曝光位置形成的光栅结构具有的光栅参数不同，实现光栅结构参数变化的二维光栅制备。

天眼查资料显示，深圳光峰科技股份有限公司，成立于2006年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本45929.1145万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳光峰科技股份有限公司共对外投资了23家企业，参与招投标项目439次，财产线索方面有商标信息395条，专利信息2288条，此外企业还拥有行政许可70个。

本文源自金融界