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诺瓦尔德申请化合物、半导体材料等相关专利,涉及化合物及多种器件制备方法

健康生活 2025年07月28日 10:23 1 admin

金融界2025年7月28日消息,国家知识产权局信息显示,诺瓦尔德股份有限公司申请一项名为“化合物、半导体材料、有机电子器件、显示装置及其制备方法”的专利,公开号CN120379986A,申请日期为2023年12月。

诺瓦尔德申请化合物、半导体材料等相关专利,涉及化合物及多种器件制备方法

专利摘要显示,本发明涉及一种化合物。本发明还涉及包含所述化合物的半导体材料、包含所述半导体材料的有机电子器件、包含所述有机电子器件的显示装置以及用于制备所述有机电子器件的方法。

本文源自金融界

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