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清华突破EUV光刻胶！聚碲氧烷新材料登场，能打破海外垄断吗？

百科大全 2025年07月27日 11:57 1 admin

据7月26日消息，随着芯片工艺冲向7nm及以下节点，EUV光刻成了绕不开的“咽喉技术”。但这技术有个大麻烦：13.5nm波长的EUV光源娇贵得很，反射损耗大、亮度还低，对光刻胶的吸收效率、缺陷控制要求高到离谱。就在这节骨眼上，清华大学许华平教授团队扔出个重磅消息——他们搞出了基于聚碲氧烷的新型光刻胶，给先进芯片材料找了条新路子。

清华突破EUV光刻胶！聚碲氧烷新材料登场，能打破海外垄断吗？

“现在的EUV光刻胶，基本被日本、荷兰几家公司攥着，我们想买都得看脸色。”某芯片制造企业的工程师老周跟我吐槽，“而且进口货有个毛病，对EUV光的吸收效率不到30%，等于大半光源都浪费了，还容易出缺陷，良率上不去，成本就下不来。”

这可不是小问题，去年国内某晶圆厂为了提高良率，光买进口光刻胶就多花了近亿元。

清华突破EUV光刻胶！聚碲氧烷新材料登场，能打破海外垄断吗？

许华平团队的新东西妙在哪？听业内专家解读，聚碲氧烷这材料对EUV光的吸收特别“对症”，理论吸收效率能提到60%以上，这意味着光源利用率翻番，缺陷率可能降一半。

更关键的是，碲元素在国内储量不算低，不像某些稀有元素卡脖子，这给国产化留了大空间。

清华突破EUV光刻胶！聚碲氧烷新材料登场，能打破海外垄断吗？

但从实验室到生产线，路还长着呢。某材料学教授坦言：“光刻胶不光要性能好，还得稳定量产。

实验室做几克样品容易，要搞出吨级的合格产品，纯度控制、生产工艺都是坎。”就像之前某高校研发的新型光刻材料，性能指标不错，却卡在量产时的批次稳定性上，最后没能落地。

现在芯片行业最关心的是，这技术能不能尽快走出实验室。毕竟，EUV光刻胶国产化每往前一步，我们在先进芯片制造上的底气就足一分。

你觉得这种新型光刻胶要真正用上生产线，最该先解决量产还是成本问题？

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