不用光刻机5nm芯片良率达70％？疯传中国芯“突破进展”打脸老美

健康生活 2025年07月26日 09:07 1 admin

中国芯片行业面临美国强力制裁，无法取得生产先进制程所需的EUV光刻机，仅能透过不断改良的DUV机台提升制程能力。

近期，微博上疯传SMIC 5nm的良率已经冲到60%至70%之间，暗示晶圆代工技术进入新阶段，然此消息未能取信所有专家，知名爆料者也提出不同看法。

外媒wccftech报道，微博知名爆料者Fixed Focus Digital提到SMIC 5nm已经达到70%的良率，甚至夸口良率水准与三星3nm接近，三星3nm为业界首款使用GAA技术的芯片，台积电是在2nm才开始使用GAA技术。

然而，这一消息并未得到所有专家的认可，不少业内人士对其真实性持怀疑态度，一些知名爆料者也纷纷提出了不同的看法，引发了广泛的讨论与争议。

此说法引发市场高度关注，社交平台X上的知名爆料者@Jukanlosreve引述消息人士的说法，直指Fixed Focus Digital的消息是伪造的。除此之外，目前市面上并未看到实际使用SMIC 5nm的产品，最新麒麟X90晶片是采用7nm制程，在商用技术至少70%良率的推测下，5nm很难达到该水准。

全球关注中国芯片业推进技术的能力，传出正在测试自行研发的EUV光刻机，预计今年第三季开始试产，实际应用状况受到市场高度关注，若效果不错，目前全球最大半导体制造设备厂商ASML将面临挑战。

如果中国完成自行生产EUV设备，代表半导体产业突破技术瓶颈，有机会持续推进先进制程技术，甚至挑战英特尔、三星或台积电。目前使用DUV设备研发技术，虽成功触及5nm，但传出成本比台积电高出至少50%。

这一高昂的成本在很大程度上限制了5nm制程的商业化应用和市场竞争力，如何在提升技术的同时有效降低成本，成为SMIC乃至整个中国芯片业需要解决的重要课题。

芯片是信息社会的基石，是实现高水平科技自立自强、经济高质量发展的重要支撑。

随着人工智能深度融入人们的生产生活，人工智能算力需求迎来爆发式增长，也成为国际竞争的重要资源。

“作为芯片研发‘国家队’，我们必须时刻紧跟信息技术变革趋势和国家战略需求。”

面向未来，大家要充满信心：“我们将扭住核心技术自主创新这个‘牛鼻子’，培育发展高端芯片，引领推动我国芯片产业高质量发展，用‘中国芯’守好数字世界的‘国门’，服务于民、服务社会。”