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埃特曼半导体申请半导体掺杂浓度测量设备及测量方法等专利,提高半导体掺杂浓度的测量准确度

抖音推荐 2025年07月25日 21:14 1 admin

金融界2025年7月25日消息,国家知识产权局信息显示,埃特曼半导体技术有限公司申请一项名为“半导体掺杂浓度测量设备及测量方法、装置、存储介质”的专利,公开号CN120369769A,申请日期为2024年01月。

埃特曼半导体申请半导体掺杂浓度测量设备及测量方法等专利,提高半导体掺杂浓度的测量准确度

专利摘要显示,本申请涉及一种半导体掺杂浓度测量设备及测量方法、装置、存储介质,属于半导体制造领域。设备包括:测量腔室,包括用于容置第一液体且限定腐蚀位置的第一腔室,第一液体包括腐蚀半导体材料的液体;第一腔室至少包括一个朝向且抵接半导体产品待测量部位的开口;半导体产品包括半导体成品或半导体半成品;排液部件,与第一腔室连接;控制部件,用于控制测量腔室和排液部件;测量腔室和排液部件均与控制部件通信连接。

天眼查资料显示,埃特曼半导体技术有限公司,成立于2020年,位于厦门市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本5199.4469万人民币。通过天眼查大数据分析,埃特曼半导体技术有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目10次,财产线索方面有商标信息21条,专利信息35条,此外企业还拥有行政许可9个。

本文源自金融界

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