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2025-07-02 0
近日,英特尔表示,ASML的首批两台 High NA EUV光刻机已在其工厂“投入生产”,比早期型号更可靠。
作为目前全球最先进的光刻机,High NA EUV的售价约3.5亿美元(约人民币25.4亿元),可以说是天价!远高于 ASML标准EUV系列的1.8亿~2亿美元。
图源:英特尔
据悉 High NA EUV 光刻机的高度超过一间会议室,长度远超前一代设备,规格特殊且极其精密,预计每小时可曝光超过185片晶圆,支持2nm以下逻辑芯片及相似晶体管密度的存储芯片量产。
一季度内生产30000片晶圆,可以生产数千个计算芯片。
在先进制程芯片制造中导入高数值孔径EUV产品,可简化制程工序、减少光罩数量,达到产能和良率提升,减少制造每片晶圆的能耗。
在初步测试中,ASML的新型High NA EUV设备可靠性大约是上一代的两倍。新的ASML EUV设备使用光束将特征打印到芯片上,也可以使用更少的曝光完成与早期设备相同的工作,从而节省时间和钱。
图源:ASML
英特尔工厂的早期结果表明,High NA EUV设备只需一次曝光和“个位数”的处理步骤就可以完成早期设备需要三次曝光和大约40个处理步骤才能完成的工作。
英特尔计划使用High NA EUV设备来帮助开发Intel 18A(1.8nm)制造技术,该技术计划于今年晚些时候与新一代PC芯片一起量产。
用时利用High NA EUV设备在2026至2027年间实现Intel 14A制程技术的量产,并在此基础上进一步提升制程技术。
图源:英特尔
英特尔花了七年时间才将这些早期设备投入全面生产,由于时间过长才导致慢慢落后于台积电,目前加速High NA EUV设备进行量产,也是英特尔战略转变的一部分。
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