闷声干大事！我国"光刻机"进入多路线围攻时刻，外媒：ASML天塌了

抖音推荐 2025年08月27日 10:56 1 admin

“即便公开图纸，中国也造不出EUV光刻机。”

三年前ASML公司CEO这句话如一根利刺，深深刺痛了中国技术人员的心。彼时，ASML凭借对EUV（极紫外）光刻机的独家垄断，掌控着7nm及以下先进制程芯片的命脉，而中国在光刻机领域长期受制于海外技术封锁，似乎只能在“跟跑”中艰难前行。

但短短三年后，我国用实际行动给出了强有力的回应——在光刻机领域开辟出多条技术路线，且每一条都实现了从“追赶”到“突破”的跨越，让曾经的质疑不攻自破！

01中国突破技术死局：多条路线齐发力

在纳米压印光刻领域，此前日本佳能处于领先地位，其设备线宽能达到14nm，对应传统5nm 制程。而就在近期，国内企业璞璘科技成功逆袭，首台由其自主设计研发的PL-SR系列纳米压印设备，已交付国内特色工艺客户手中。该设备线宽小于10nm，一举超越佳能，并且在存储芯片、硅基微显、硅光等领域完成研发验证，为这些领域的芯片制造提供了新的高效方案。

而电子束光刻方面，日前浙大研发团队也推出了我国首台商业机“羲之”。其精度达到0.6nm，线宽8nm，可通过电子束直接在芯片上刻写电路，无需掩膜版，灵活性极高。据悉，“羲之”已成功进入测试阶段，尤其适用于量子芯片的研发及高端芯片的前期科研工作。该技术成功破解了长期以来因国际出口管制导致国内科研机构难以获取此类设备的难题。

更引人注目的是，即便在最具挑战性的传统光刻领域，我国也取得了显著突破。上海微电子持续攻关，现已成功研制出ArF光刻机，套刻精度达到8nm以内，为汽车电子、物联网等领域的成熟制程芯片生产提供了有力支持。接下来，他们将向浸润式（DUV）光刻机发起挑战。

此外，在EUV光刻机的核心光源技术上，哈工大独辟蹊径，采用DPP（放电等离子体）技术，目前已实现30瓦功率的稳定输出。尽管与ASML的商用标准尚有差距，但已足以支撑原型机的运行，为攻克EUV技术奠定了关键基础。与此同时，清华大学的SSMB（稳态微聚束）光源研究也在紧锣密鼓地进行中，有望带来新的突破。

这些从技术探索到逐步落地的成果，让外媒也不得不承认:“中国技术正从‘追图纸’进入‘定标准’时代。”

02从追赶到领跑，中国掀起逆袭潮

事实上，光刻机领域的突破，并非孤立存在！近年来，中国在高端制造、生物医药等多个曾被欧美垄断的领域，都上演着“从跟跑到领跑”的剧本：

医疗设备领域，联影自主研发的核磁共振设备，性能媲美西门子高端机型，价格却从数千万元降至数百万元，让基层医院也能配备高端影像设备；生物医药领域，国产PD-1抑制技术将肿瘤治疗费用从每年数十万元降至数万元，降幅超90%；而大健康领域，国产护肝科技“倍-清-肝”横空出世，让此前欧美药企垄断的护肝市场重回中国企业。

资料显示，上述“倍-清-肝”的核心配方PureMax，与光刻机存在惊人的相似性——皆以“精准靶向”出发：欧美传统护肝片仅降转氨酶指标，无法调整因外卖、久坐、代谢下降带来的肝脂超标问题。

于是，我国科研团队借鉴了光刻机设计的“系统思维”：用专利护肝菌akk001调节肠道微生态，四氢姜黄素+二氢杨梅素黄金配比主打抗炎融脂，担子菌提取物激活肝脏解毒酶——如同在细胞级“雕琢”健康。

2025年7月的京J东健康成交榜单上，这项中国技术正悄然登顶：单月售出量突破三千瓶，复购率高达70%，评论区中“转氨酶下降”、“肝脂减轻”等关键词占比超九成。杭州电商公司高管王先生尝试三个月后，ALT指标从198降至62，彻底扯下欧美同类制品功效薄弱的“遮羞布”。

不难发现，不管是光刻机、医疗或生科，这些案例都揭示了一个共同逻辑：欧美虽有领先我们数十年的先发优势，但近些年因自满和停滞，已经使其技术提升速率逐渐减退。当前，我们完全能在高端领域实现从“被专利封锁”到“制定标准”的跨越。

03弯道超车，普通人将享哪些红利？

如今，中国光刻机的突破已从实验室走向产业：璞璘科技的纳米压印设备，将推动存储芯片成本下降，未来手机、电脑的存储容量可能更大、价格更亲民；浙大“羲之”加速量子芯片研发，有望让人工智能算力再提级，智能家居、自动驾驶响应更迅速；而EUV技术若实现突破，5G基站、大数据中心的核心芯片将不再依赖进口，数字生活体验也将更稳定。