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华虹集成申请多反馈源的套刻精度补偿方法及系统专利,能够对两层的套刻精度进行控制

游戏天地 2025年08月23日 15:13 1 admin

金融界2025年8月23日消息,国家知识产权局信息显示,华虹集成电路(成都)有限公司申请一项名为“多反馈源的套刻精度补偿方法及系统”的专利,公开号CN120522988A,申请日期为2025年06月。

华虹集成申请多反馈源的套刻精度补偿方法及系统专利,能够对两层的套刻精度进行控制

专利摘要显示,本发明提供了一种多反馈源的套刻精度补偿方法及系统,属于半导体领域。该多反馈源的套刻精度补偿方法包括提供一与工艺工程相匹配套刻标识,所述套刻标识包括前层标识和当层标识;量测前层刻蚀图案和当层刻蚀图案的参数,获取前层标识与当层标识的套刻精度;设定不同反馈源的方向权重;基于设定的方向权重对套刻精度补偿参数加和之后,将加和结果补偿到本层中。

天眼查资料显示,华虹集成电路(成都)有限公司,成立于2023年,位于成都市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2280000万人民币。通过天眼查大数据分析,华虹集成电路(成都)有限公司参与招投标项目128次,财产线索方面有商标信息2条,专利信息7条,此外企业还拥有行政许可103个。

本文源自金融界

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