国产光刻机进入快车道！10 家关键环节独苗企业，撑起产业链自主化

热门资讯 2025年08月22日 14:14 1 admin

近期，我国高端半导体装备领域频传突破：璞璘科技宣布自主研发的步进式纳米压印设备正式交付，实现线宽小于 10nm 的纳米压印光刻工艺，核心指标超越日本佳能同类产品；上海芯上微装则在成立仅半年（今年 2 月成立）的时间里，完成 500 台步进光刻机交付。两大突破释放明确信号 —— 我国高端半导体装备已迈入发展新阶段，光刻机国产替代进程正持续加快。

本文通过梳理光刻机产业链，筛选出在产业链各环节打破国外垄断、实现关键技术突破的 10 家唯一性企业，供行业交流研讨参考。

特别声明：以下内容绝不构成任何投资建议、引导或承诺，仅作为产业研究素材。

1. 张江高科（600895）

细分领域：房产开发销售、租赁及园区运营
唯一性：通过子公司持有上海微电子约 10% 股权，而上海微电子是国内唯一能量产光刻机整机的企业，为国产光刻机整机制造提供核心资本支撑。
公司亮点：作为张江科学城开发建设主力军，不仅打造了多款高端精品房产，更设立集成电路创新服务平台 “张江浩芯”，有效缩短芯片从研发到量产的周期，助力集成电路产业生态落地。

2. 大族激光（002008）

细分领域：激光设备及关键器件研发与制造
唯一性：国内唯一光刻机整机上市企业，其自主研发的接近式光刻机已正式投入市场，填补了国内上市企业在光刻机整机领域的空白。
公司亮点：构建了 “基础器件 — 整机设备 — 工艺解决方案” 垂直一体化能力，是亚洲规模最大的激光加工设备生产商，技术与产能覆盖半导体、消费电子等多领域。

3. 茂莱光学（688502）

细分领域：光学器件、光学系统与高端镜头
唯一性：国内唯一实现 DUV（深紫外）光刻机投影物镜量产的企业，掌握纳米级光学制造技术，核心光学器件性能达到国际先进水平，打破国外在该环节的垄断。
公司亮点：国家专精特新 “小巨人” 企业，在 DUV 光学透镜领域实现全链条自主可控，与上海微电子保持长期深度合作，国内市场占有率位居前列。

4. 凯美特气（002549）

细分领域：氢气、二氧化碳及电子特种气体
唯一性：研发的光刻气可满足 EUV（极紫外）光刻工艺需求，其稀有气体纯化技术填补国内空白，是国内少数进入荷兰 ASML 光刻供应链的气体企业。
公司亮点：国家专精特新 “小巨人” 企业，国内工业气体回收利用领域龙头，在电子特种气领域突破多项国外技术壁垒，为半导体高端制程提供关键材料支撑。

5. 华特气体（688268）

细分领域：特种气体、气体设备及工程服务
唯一性：国内唯一同时通过荷兰 ASML、日本 GIGAPHOTON（光刻机制造商）认证的气体公司，研发的多款光刻混合气可适配不同制程需求。
公司亮点：实现 50 余种特种气体国产替代，产品已切入 5nm 等先进制程工艺，合作客户覆盖台积电、三星、中芯国际等全球半导体知名企业。

6. 新莱应材（300260）

细分领域：洁净应用材料、高纯 / 超高纯应用材料
唯一性：半导体真空系统、气体系统产品均可应用于光刻机设备，且同时通过 ASML、AMAT（应用材料）等国际顶尖设备商认证，国内仅少数企业具备该资质。
公司亮点：国内少数覆盖泛半导体、生物医药、食品饮料三大领域的高洁净材料企业，核心产品性能达到行业先进水平，支撑高端制造领域的洁净工艺需求。

7. 美埃科技（688376）

细分领域：空气净化设备、大气环境治理系统
唯一性：为上海微电子 28nm 制程光刻设备量身开发专用空气净化产品，打破国外企业在光刻机配套空气净化领域的垄断，实现该环节国产替代。
公司亮点：国家专精特新 “小巨人” 企业，在国内外布局 11 个生产基地，客户涵盖中芯国际、华虹半导体等国内外知名半导体企业，产品稳定性获行业认可。

8. 炬光科技（688167）

细分领域：高功率半导体激光器、激光光学系统
唯一性：国内高功率半导体激光器核心供应商，产品最终应用于全球高端光刻机生产商（含 ASML 供应链），是光刻机激光光源环节的关键国产参与者。
公司亮点：国家技术创新示范企业，为 ASML 光学设备核心供应商（A 公司）提供关键器件，技术实力获全球顶尖供应链认可，支撑光刻机核心部件国产化。

9. 奥普光电（002338）

细分领域：光机电一体化产品、精密光学组件
唯一性：大股东长春光机所（长光所）是国内 EUV 光刻曝光系统研发的核心力量，同时公司自产光学晶体可直接应用于光刻机光学系统，在 EUV 关键环节具备技术储备。
公司亮点：国家技术创新示范企业，在精密机械加工、光学材料制备、核心元器件加工等领域掌握几十项关键技术，为光刻机核心系统研发提供基础支撑。

10. 波长光电（301421）

细分领域：精密光学元件、光学组件与系统
唯一性：国内少数具备光刻机配套大孔径光学镜头供应能力的企业，参与研发的 EUV 物镜系统面型精度达 2nm，技术水平国内领先，填补国产 EUV 光学镜头空白。
公司亮点：国家专精特新 “小巨人” 企业，掌握光学设计、超精密加工等核心技术，曾获 “中国激光行业卓越贡献奖”，产品可适配 DUV 及 EUV 等不同代际光刻机需求。

从光刻机整机制造到核心光学器件、电子特气、配套系统，上述 10 家企业在产业链关键环节均实现 “从 0 到 1” 的突破，打破国外长期垄断的格局。随着璞璘科技、上海芯上微装等企业不断刷新国产装备技术高度，光刻机国产替代正从 “单点突破” 迈向 “产业链协同” 新阶段，具备技术唯一性的企业有望在这一进程中把握更多发展机遇，为我国半导体装备自主化提供核心支撑。