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汇成真空:公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率等优势和特点

热门资讯 2025年08月19日 21:14 1 admin

证券日报网讯 汇成真空8月19日在互动平台回答投资者提问时表示,公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率、低占空比控制、成膜致密均匀等优势和特点,详情请关注公司定期报告。

汇成真空:公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率等优势和特点

(编辑 袁冠琳)

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