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2025-08-28 0
应用材料取得用于形成氮化硅硼层的方法专利
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2025年08月19日 18:32 2
admin
金融界2025年8月19日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司取得一项名为“用于形成具有低漏电流的含硅硼膜的方法”的专利，授权公告号CN113316835B，申请日期为2019年12月。
本文源自金融界
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