您好：这款游戏可以开挂，确实是有挂的，很多玩家在这款游戏中打牌都会发现很多用户的牌特别好，总是好牌，而且好像能看到-人的牌一样。所以很多小伙伴就怀疑这...
2025-08-19 0
中国第二条线DUV多重曝光到2纳米
抖音快讯
2025年08月19日 08:55 1
admin
华为和中芯国际专利浸润式DUV光刻机可通过多重曝光（如SATP+SADP技术）实现6.3nm半间距（EUV 是6.7mm)，接近2nm需求。目前，5纳米成品率到了70%，用于大数据模型训练GPU。
标准路线是第三代ASML EUV光刻机5200B High-NA EUV以提升良率和效率，避免多重曝光带来的工艺复杂性。
自己研究EUV光刻机只有第一代水平，初始曝光22纳米，比DUV光刻机38纳米好一些，DUV和EUV混合工艺进一步到极限。
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