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2025-08-19 0
两名核心员工,一份价值连城的技术秘密,一场精心策划的叛逃。
当屹唐股份发现自己的“命门”技术被前员工带到美国应用材料公司时,这家国内半导体设备龙头立即发起了9999万元的天价索赔。
但谁能想到,这场技术窃密案的后果远比想象中严重。
最近,国内半导体行业发生了一件大事,国内龙头企业屹唐股份,正式对全球半导体设备巨头美国应用材料公司提起了诉讼,索赔金额高达9999万。
此次诉讼的核心争议,围绕两名曾任职于屹唐股份体系内的核心技术人员展开,他们离职后的行为被屹唐股份认定为严重的商业秘密侵权。
这两名涉案员工此前都在屹唐股份全资子公司工作,并且还参与了公司核心的等离子体等技术研发项目。
因为这个岗位的特殊性,两人入职时均与屹唐股份签署了严格的保密协议,大概内容也就是离职后不得向任何第三方泄露公司技术秘密。
然而,2024年两名员工在几乎同一时间向屹唐股份提交辞职申请,离职后不久便共同加入了美国应用材料公司。
这家企业与屹唐股份在半导体设备领域存在直接竞争关系。
更关键的是,两人入职应用材料公司仅6个月后,该公司便以这两名前员工为主要发明人,向中国国家知识产权局提交了一份与等离子体技术相关的专利申请。
这一切发生的太巧合了,屹唐股份不能不警惕一点,没想到这一查就发现这份专利申请的内容与公司自身的技术核心等离子体技术高度重合。
不仅涵盖了技术原理层面的关键逻辑,更包含了屹唐股份独家拥有的设备关键参数等涉密信息。
所以屹唐股份认为,不管是这家公司还是涉案员工,都已经构成了明确的商业秘密侵权。
而这一侵权行为背后,牵涉的是半导体制造领域的关键技术—等离子体技术,其重要性与潜在影响远超单一企业纠纷。
作为半导体制造的核心环节,等离子体技术直接决定了芯片的刻蚀精度与生产良率,在干法去胶、刻蚀等关键设备中应用广泛。
屹唐股份通过多年自主研发,叠加对MTl的收购整合,已攻克高浓度、稳定均匀的等离子体晶圆表面处理技术,这一技术也正是他们公司的核心竞争力之一。
依托该技术,屹唐股份的产品成功打入台积电等全球顶级芯片厂商中,其中干法去胶设备等全球市场占有率稳居第二,也是国产半导体设备在国际市场的重要代表。
而美国应用材料公司与屹唐股份在半导体设备领域又存在直接竞争关系,尤其在等离子体相关设备市场上竞争激烈。
若该专利申请成功获批,应用材料公司未来甚至可能以此为依据,反诉屹唐股份“专利侵权”,形成“鸠占鹊巢”的被动局面。
届时屹唐股份不仅可能被竞争对手超越,失去已有的市场份额,还可能被迫支付高昂的技术授权费,甚至面临长期的侵权诉讼。
从行业层面看,此次事件的影响更为深远。
若屹唐股份的关键等离子体技术真的被窃取并被外企掌握,可能导致该技术再度被国际巨头垄断。
国内半导体设备企业将重新陷入“卡脖子”困境,进而延缓国产半导体设备替代进程,甚至对中国半导体产业链自主可控的整体布局造成冲击。
事实上,类似的技术侵权与人才争夺并非个例。
早年间,国际半导体巨头就常以2-3倍高薪挖角中国核心技术人才,而近年来相关侵权案件又频发。
此次屹唐股份主动起诉美国应用材料公司,也算被业内视为中国半导体企业捍卫技术主权的“标杆之战”。
案件结果或将推动整个行业进一步加强知识产权保护机制与竞业限制管理,为国产半导体技术研发筑牢“安全防线”。
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