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专利摘要显示,本发明涉及半导体制造技术领域,提供了一种用于半导体器件制造的热处理方法,包括构建含第一处理模块和第二控制模块的热处理模型。首先获取历史数据,包括相邻时刻的温度信息、处理动作、效果评分、温度偏差及时间成本代价;通过第一处理模块的温度转换器、动作‑温度转换器等组件处理数据并构建第一目标函数,优化各转换器参数。第二控制模块通过动作生成网络生成动作概率分布,结合效果、温度偏差及时间成本评估网络输出值,利用优势评估函数优化网络参数。迭代训练至预设次数后,将实时温度输入训练好的动作生成网络,输出控制动作以调节热处理过程。该方法通过多模块协同优化,实现温度精准控制与成本平衡。
本文源自金融界
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