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2025-08-15 0
金融界2025年8月15日消息,国家知识产权局信息显示,华虹半导体(无锡)有限公司申请一项名为“改善一次性可编程存储器性能的半导体器件及其制造方法”的专利,公开号CN120500042A,申请日期为2025年04月。
专利摘要显示,本发明提供一种改善一次性可编程存储器性能的半导体器件,包括一半导体衬底,半导体衬底上形成有栅极结构,栅极结构的侧壁上形成有侧墙;金属硅化物区域,设置在半导体衬底和/或栅极结构上的预定区域;一接触刻蚀停止层,设置在半导体衬底、栅极结构和金属硅化物区域之上,接触刻蚀停止层包括:一富硅氧化物层,直接设置在半导体衬底、栅极结构和金属硅化物区域之上;以及一氮化物层,设置在富硅氧化物层之上;一层间介质层,设置在接触刻蚀停止层的氮化物层之上;以及接触通孔,贯穿层间介质层和接触刻蚀停止层延伸,以接触金属硅化物区域。
天眼查资料显示,华虹半导体(无锡)有限公司,成立于2017年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本253685.180069万美元。通过天眼查大数据分析,华虹半导体(无锡)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目2938次,专利信息1740条,此外企业还拥有行政许可117个。
本文源自金融界
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