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2025-08-17 0
近日,全国首台国产商业电子束光刻机"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段。该设备精度达到0.6nm,线宽8nm,专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节,可通过高能电子束在硅基上"手写电路",无需掩膜版即可灵活修改设计,其精度已比肩国际主流设备。这标志着我国量子芯片研发从此有了"中国刻刀"。
近期我国在光刻机领域捷报频传。我国自主研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备成功交付国内客户,可支持线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺,技术指标超越国际巨头佳能同类产品。此外,国家第三代半导体技术创新中心在氮化镓/碳化硅集成领域取得突破性进展,首次研制出商用8英寸4°倾角4H-SiC衬底上的高质量氮化铝镓/氮化镓异质结构外延。
这些进展将对以下板块产生重大影响:
1、光刻胶及原材料:
光引发剂等核心材料需求增加
国产替代进程加速
2、半导体设备:
光刻机配套设备需求提升
本土化率提升带来发展机遇
3、特种气体:
光刻工艺用特种气体需求增长
进口替代空间扩大
相关上市公司梳理:
1、华特气体(688268):国内领先的特种气体制造商,具备光刻气体量产能力
2、中船特气(688146):专注高纯特种气体研发生产,是光刻机用气体重要供应商
3、凯美特气(002549):拥有特种气体核心技术,产品应用于光刻工艺
4、芯碁微装(688630):从事光刻设备研发制造,具备直写光刻系统技术
5、洪田股份(603800):专注光刻胶配套材料研发,具备规模化生产能力
本文源自金融界
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