精度0.6nm，中国电子束光刻机大突破，绕开ASML EUV光刻机？

热门资讯 2025年08月14日 12:22 1 admin

目前大规模芯片制造，几乎全部是基于光刻系统。

所以光刻机是必不可少的设备，而光刻机与芯片工艺是对应的，比如制造7nm以下芯片，要使用EUV光刻机。

大家都清楚，EUV光刻机，全球只有ASML一家能够制造，且美国不允许他卖给中国。

所以，一定程度上而言，如果我们走光刻路线来造芯片，想制造7nm以下的芯片，要么自己攻克EUV光刻机，要么换条道，不采用EUV光刻的方案。

事实上，目前不采用这种EUV的方案有多种，比如纳米压印，佳能就已经有了类似的设备，甚至说可以制造5nm的芯片。

而之前英国推出了一种EBL电子束光刻机，采用电子束，直接在硅片上进行光刻，还无需光刻方案中，采用使用的光掩膜版，据称EBL的精度已经可以低于1nm。

近日，国内在EBL方面，也有了突破，浙江大学成果转化基地孵化了一个让人震惊的大项目，那就是全国首台国产商业化电子束光刻机 “羲之”，已经进入了应用测试阶段。

这台EBL光刻机，精度达 0.6nm、线宽 8nm，同样无需掩膜版且可直接在硅晶圆上进行芯片电路图的记录，还可以灵活修改设计，适配芯片研发初期反复调试需求。

很多人称它为中国芯片产业的 “中国刻刀”，因为它同样是全球顶尖的技术，与之前曝光的英国、美国的EBL电子束光刻机相比，并不落后。

当然，目前这台设备，还处于应用测试阶段，但既然进入应用测试，就不再是理论，而是有了实际的机器，可以用于实际的生产了，一旦测试OK，就可以大规模的应用于芯片制造中。

不过，这种光刻机也有缺点，那就是功率不高，效率也不太高，暂时无法用于大规模的芯片制造之中，要取代EUV有点难。

但它，可以用于量子芯片、新型材料芯片这些新型领域，让我们绕开了EUV光刻机路线，更何况继续研发，说不定技术改进后，也能够用于大规模的芯片制造。

可以说，这次真的算是一个巨大突破，不知道ASML慌不慌？一旦这样的光刻机大规模量产，美国的封锁，还有意义么？

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