协鑫光电取得兼容原子层沉积和物理气相沉积设备专利，节约设备成本

抖音快讯 2025年08月13日 18:17 1 admin

金融界2025年8月13日消息，国家知识产权局信息显示，昆山协鑫光电材料有限公司取得一项名为“兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备”的专利，授权公告号CN223214172U，申请日期为2024年08月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备，其包括：沉积室以及与沉积室配合的第一环境调节单元、第一前驱物供应单元和第二前驱物供应单元、原子层沉积激发单元和物理气相沉积激发单元、第一传送装置，第一环境调节单元用于调节沉积室内的温度以及真空度；第一前驱物供应单元用于提供第一前驱物，第二前驱物供应单元用于提供第二前驱物；原子层沉积激发单元用于将第一前驱物转化形成原子层沉积层，物理气相沉积激发单元用于将第二前驱物转化形成物理气相沉积层。本实用新型将ALD设备与PVD设备集成为一体，可在同一个腔室内同时完成ALD沉积工艺和PVD沉积工艺，能够节约设备成本，简化工艺流程。

天眼查资料显示，昆山协鑫光电材料有限公司，成立于2019年，位于苏州市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本11741.303987万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山协鑫光电材料有限公司参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息188条，此外企业还拥有行政许可19个。

本文源自金融界