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上海华力申请光学邻近效应修正方法专利,改善目标图形与对应的仿真图形之间的边缘放置误差

百科大全 2025年08月12日 11:35 1 admin

金融界2025年8月12日消息,国家知识产权局信息显示,上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“光学邻近效应修正方法”的专利,公开号CN120469147A,申请日期为2025年06月。

上海华力申请光学邻近效应修正方法专利,改善目标图形与对应的仿真图形之间的边缘放置误差

专利摘要显示,本发明提供一种光学邻近效应修正方法,先获取所有目标图形与对应的仿真图形之间的边缘放置误差;然后将所有目标图形的边缘放置误差与预设特征值进行比较,以根据比较结果获取所有目标图形中的待修正片段;接着,基于待修正片段确定所有亚分辨率辅助图形中的待修正亚分辨率辅助图形;之后,移动待修正亚分辨率辅助图形或者移动待修正亚分辨率辅助图形中的部分线段,以调整边缘放置误差。如此,可以改善目标图形与对应的仿真图形之间的边缘放置误差,并改善工艺窗口。

天眼查资料显示,上海华力集成电路制造有限公司,成立于2016年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2081次,专利信息2395条,此外企业还拥有行政许可346个。

本文源自金融界

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