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国林科技:关于半导体臭氧设备是否更适合于EUV光刻配套,业内处于工艺研究与试验中

热门资讯 2025年08月11日 19:03 1 admin

证券日报网讯 8月11日有投资者在互动平台向国林科技提问“从技术研究成果来看,半导体臭氧设备是否更适合于EUV光刻配套?”公司回复“从技术角度来说,未来会是一种发展趋势,目前行业中依然处于工艺研究与试验中”。

国林科技:关于半导体臭氧设备是否更适合于EUV光刻配套,业内处于工艺研究与试验中

(编辑 袁冠琳)

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