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国林科技:半导体专业臭氧系统设备可满足先进与前沿制程应用

健康生活 2025年08月11日 11:06 1 admin

金融界8月11日消息,有投资者在互动平台向国林科技提问:公司生产的半导体设备性能是否能达到目前世界主流7nm以下(包含5nm和3nm)euv级别和duv级别芯片光刻配套设备水准?

国林科技:半导体专业臭氧系统设备可满足先进与前沿制程应用

公司回答表示:尊敬的投资者,您好。公司的半导体专业臭氧系统设备目前可以满足先进与前沿制程应用。感谢您的关注。

本文源自金融界

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