芯恩集成电路取得半导体刻蚀设备专利，可使介质窗的温度保持恒定

健康生活 2025年08月06日 10:31 1 admin

金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司取得一项名为“半导体刻蚀设备”的专利，授权公告号CN223193771U，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本申请涉及一种半导体刻蚀设备。该半导体刻蚀设备，包括：第一腔体、第二腔体、介质窗、第一排气系统、挡板以及气体压力反馈调控器；介质窗位于第一腔体与第二腔体之间，第一排气系统与第一腔体连通；第一排气系统上设置有第一开口，挡板一端能够穿过第一开口伸入第一排气系统，挡板进入第一排气系统的深度不同，第一排气系统内的气体压力不同；气体压力反馈调控器用于检测第一排气系统中的当前气体压力，并将当前气体压力与指定气体压力进行比较，以及基于比较结果调节挡板进入第一排气系统的深度，以使第一排气系统中的气体压力为指定气体压力。

天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目178次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息756条，此外企业还拥有行政许可56个。

本文源自金融界