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朗姆研究申请使用电感耦合高密度等离子体进行介电膜的致密化专利,防止在致密化介电膜期间介电膜的溅射

百科大全 2025年08月04日 18:07 2 admin

金融界2025年8月4日消息,国家知识产权局信息显示,朗姆研究公司申请一项名为“使用电感耦合高密度等离子体进行介电膜的致密化”的专利,公开号CN120413518A,申请日期为2017年05月。

朗姆研究申请使用电感耦合高密度等离子体进行介电膜的致密化专利,防止在致密化介电膜期间介电膜的溅射

专利摘要显示,本发明涉及使用电感耦合高密度等离子体进行介电膜的致密化。一种用于致密化衬底上的介电膜的方法包括:将包括介电膜的衬底布置在衬底处理室中的衬底支撑件上;向所述衬底处理室供应包括氦和氧的气体混合物;将所述衬底处理室中的压强控制为大于或等于预定压强的压强;将第一功率电平以第一频率提供给线圈以在所述衬底处理室中产生等离子体。所述线圈围绕所述衬底处理室的外表面布置。所述方法包括致密化所述介电膜持续预定时间。选择所述压强和所述第一功率电平以防止在致密化所述介电膜期间所述介电膜的溅射。

本文源自金融界

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