华虹集成申请检测金属层过刻蚀缺陷的方法和测试结构专利，实现实时监控

抖音热门 2025年08月02日 17:03 2 admin

金融界2025年8月2日消息，国家知识产权局信息显示，华虹集成电路（成都）有限公司申请一项名为“检测金属层过刻蚀缺陷的方法和测试结构”的专利，公开号CN120413456A，申请日期为2025年04月。

专利摘要显示，本发明提供了一种检测金属层过刻蚀缺陷的方法和测试结构，方法包括：提供一测试结构，测试结构包括衬底；对衬底进行离子注入以提高导电性；当检测第一金属互连层是否过刻蚀时，测试结构包括多晶硅、介电层和第一金属互连层，多晶硅形成于衬底上，第一金属互连层包括若干个第一子金属块，一部分第一子金属块的下方是介电层、多晶硅和衬底，另一部分第一子金属块的下方是介电层和衬底；用电子束对测试结构进行扫描得到点阵图像，通过点阵图像的亮暗判断是否存在过刻蚀。

天眼查资料显示，华虹集成电路（成都）有限公司，成立于2023年，位于成都市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2280000万人民币。通过天眼查大数据分析，华虹集成电路（成都）有限公司参与招投标项目128次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可86个。

本文源自金融界