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2025-08-22 0
金融界2025年8月2日消息,国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“训练机器学习模型以确定掩模的光学邻近效应校正的方法”的专利,公开号CN120406039A,申请日期为2020年01月。
专利摘要显示,本发明描述多种训练方法和一种掩模校正方法。所述方法之一用于训练机器学习模型,该机器学习模型被配置成预测用于掩模的优化后邻近效应校正(OPC)图像。所述方法涉及:获得(i)与待印制于衬底上的设计布局相关联的优化前邻近效应校正图像、(ii)所述掩模的与所述设计布局相关联的一个或更多个辅助特征的图像、和(iii)所述设计布局的优化后邻近效应校正参考图像;以及将所述优化前邻近效应校正图像和所述一个或更多个辅助特征的图像用作输入来训练所述机器学习模型,使得所述参考图像与所述机器学习模型的所预测的优化后邻近效应校正图像之间的差异被减小。
本文源自金融界
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