双良硅材料申请液口距调节装置和调节方法专利，大幅提升口距测量与调节精度

百科大全 2025年08月02日 10:43 1 admin

金融界2025年8月2日消息，国家知识产权局信息显示，双良硅材料（包头）有限公司申请一项名为“一种液口距调节装置和调节方法”的专利，公开号CN120400979A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本申请提供了一种口口距调节装置和调节方法，液口距调节装置包括坩埚、投影组件、传动组件和图像采集组件。投影组件的导流筒面向液面，变径环上设有不同位置的镂空结构。图像采集采集变径环及其在液面的投影图像，控制传动组件调节液面与变径环间距，检测不同重叠状态下传动组件的控制参数以构建调节关系式，该式反映控制参数与间距对应关系。进而将目标间距输入关系式得到目标控制参数，驱动传动组件实现精准调节。相较于成像法依赖像素比估算距离，受熔融液面抖动影响精度的缺陷，本发明通过基于镂空结构投影重叠状态构建调节模型，克服液面干扰，大幅提升口距测量与调节精度，满足高精度工艺需求。

天眼查资料显示，双良硅材料（包头）有限公司，成立于2021年，位于包头市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本330000万人民币。通过天眼查大数据分析，双良硅材料（包头）有限公司参与招投标项目607次，专利信息194条，此外企业还拥有行政许可50个。

本文源自金融界