本源量子申请光刻工艺显影方法等专利，制造量子器件线宽一致性更高

抖音快讯 2025年07月28日 01:33 1 admin

金融界2025年7月26日消息，国家知识产权局信息显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司申请一项名为“一种光刻工艺、显影方法及其应用、制造量子器件的方法”的专利，公开号CN120370639A，申请日期为2024年01月。

专利摘要显示，本申请公开了一种光刻工艺、显影方法及其应用、制造量子器件的方法，属于量子芯片制造领域。显影方法用于光刻工艺中在衬底表面形成具有沉积窗口的光刻胶层。该所述显影方法包括：将衬底表面经过曝光的光刻胶层浸没于处于给定工艺温度的显影剂中予以显影，并且同步在显影剂中实施超导波处理，其中，给定工艺温度小于显影剂的额定显影温度。通过上述方式可以使得制造量子器件的线宽一致性更高，从而能够改善其关联于线宽一致性的性能或参数。

天眼查资料显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司，成立于2017年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000.0008万人民币。通过天眼查大数据分析，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目100次，财产线索方面有商标信息669条，专利信息1835条，此外企业还拥有行政许可6个。

本文源自金融界