华卓精科申请基于微透镜阵列的UV-LED光刻曝光方法及光刻机专利，提高曝光效率

热门资讯 2025年07月27日 08:57 1 admin

金融界2025年7月26日消息，国家知识产权局信息显示，北京华卓精科科技股份有限公司申请一项名为“基于微透镜阵列的UV-LED光刻曝光方法及光刻机”的专利，公开号CN120370631A，申请日期为2024年01月。

专利摘要显示，本发明提供了一种基于微透镜阵列的UV‑LED光刻曝光方法及光刻机，该方法包括：采用UV‑LED光源进行光刻，以形成光强均匀分布的曝光场；通过微透镜阵列对UV‑LED光源的出光光束进行准直，并在掩模表面形成矩形曝光光斑；通过投影系统将掩模图案投影在涂有光刻胶的晶圆上实现曝光；该投影系统的焦平面与所述晶圆平面重合。本发明实施例利用微透镜阵列代替激光准直光路，使得光学系统简单高效，可实现无限大曝光区域，通过投影系统对掩膜图案投影实现曝光，提高了曝光效率。

天眼查资料显示，北京华卓精科科技股份有限公司，成立于2012年，位于北京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本25239万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华卓精科科技股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目79次，财产线索方面有商标信息31条，专利信息636条，此外企业还拥有行政许可95个。

本文源自金融界