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晶芯成等取得一种Fin FET器件及其制造方法专利

健康生活 2025年07月25日 21:09 1 admin

金融界2025年7月25日消息,国家知识产权局信息显示,晶芯成(北京)科技有限公司、合肥晶合集成电路股份有限公司取得一项名为“一种Fin FET器件及其制造方法”的专利,授权公告号CN119789479B,申请日期为2025年03月。

晶芯成等取得一种Fin FET器件及其制造方法专利

天眼查资料显示,晶芯成(北京)科技有限公司,成立于2020年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本20万人民币。通过天眼查大数据分析,晶芯成(北京)科技有限公司专利信息216条,此外企业还拥有行政许可1个。

合肥晶合集成电路股份有限公司,成立于2015年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本200613.5157万人民币。通过天眼查大数据分析,合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目628次,财产线索方面有商标信息41条,专利信息1176条,此外企业还拥有行政许可21个。

本文源自金融界

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