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神州半导体申请远程等离子源石英腔体气泡消除控制专利,减少石英腔体颗粒对制程腔室的污染

热门资讯 2025年07月24日 03:20 1 admin

金融界2025年7月23日消息,国家知识产权局信息显示,江苏神州半导体科技有限公司申请一项名为“一种远程等离子源石英腔体气泡消除控制方法及装置”的专利,公开号CN120354267A,申请日期为2025年06月。

神州半导体申请远程等离子源石英腔体气泡消除控制专利,减少石英腔体颗粒对制程腔室的污染

专利摘要显示,本发明属于远程等离子源技术领域,提供了一种远程等离子源石英腔体气泡消除控制方法及装置,方法包括:获取石英腔体的气泡数据;基于随机森林算法获取工艺参数对于各气泡数据的重要性度;综合各气泡数据获得耦合重要性度;建立关于气泡数量M与气泡最大直径D的误差目标函数,对隶属度权值进行优化更新;将优化后的隶属度权值与对应的初始值进行比较,获得单位时间的各工艺参数变化率;根据气泡数量M与气泡最大直径D的误差率大小关系,依据工艺参数变化率对工艺进行动态优化。

天眼查资料显示,江苏神州半导体科技有限公司,成立于2016年,位于扬州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2345.679万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏神州半导体科技有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目29次,财产线索方面有商标信息28条,专利信息128条,此外企业还拥有行政许可23个。

本文源自金融界

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