2nm时代在望！ASML第二代顶级光刻机出货：单台超30亿元

健康生活 2025年07月23日 22:32 1 admin

目前最先进的光刻机当然来自荷兰的ASML公司，尽管业内的芯片制程目前3nm就是最高，而且似乎利用早前的EUV光刻机就能达到，但是ASML在新光刻机的研发制造上并没有松懈，之前ASML已经向Intel这些公司出货了High NA EUV光刻机，型号为EXE:5000；而近日ASML又宣布：第二代High NA EUV光刻机已经正式出货，性能比之前的产品又有了提升。

众所周知，光刻机在半导体制造过程中扮演着举足轻重的角色，它利用光学原理将电路图案蚀刻到晶圆上，是决定芯片制程精细度的关键。之前ASML第一代High NA EUV光刻机EXE:5000主要就是针对2nm及未来的制程而打造的，而现在EXE:5200作为新一代的升级版光刻机，在多项技术规格上都有显著提升。而其中最引人注目的是其更高的晶圆处理量，相较于EXE:5000每小时可处理185 片以上晶圆的速度，EXE:5200又提升了不少，能更有效地提高生产效率，为2nm制程的商业化量产提供强大支持。

简单来说，EXE:5200相比之前的EXE:5000，能在产能上进一步提升同时效率更高，也可以为厂商降低相应的生产成本。此外，EXE:5200与其前身EXE:5000 都搭载了0.55 的数值孔径（Numerical Aperture），这比前一代EUV光刻机的0.33孔径透镜有着更高的精度。这意味着光刻机能够实现更精细的解析度，进而刻画出更微小的电晶体结构，这对于追求极致效能和低功耗的先进晶片来说至关重要。 ASML 表示，EUV 0.55 NA 的设计目标是从2025 年开始，逐步实现多个未来技术节点的生产，这将是业界首度应用此技术，未来也将扩展到记忆体等其他领域。

当然新的顶级光刻机价格自然也非常夸张了，根据了解的情况单台价格超过了30亿元人民币，而且其中大量部件依然是联合全球各个顶尖厂商提供，技术含量和稀缺性都直接拉满。当然目前据说买家只有Intel，其他一些芯片代工厂还在考量购入这类光刻机的必要性和时机。不过很显然，对于国外的芯片企业来说，以后要生产2nm芯片的难度并不会很高。

目前据说台积电的2nm芯片良率已经达到60%以上，Intel也超过了40%，也就三星稍微低一些，如果未来各大芯片代工厂在使用ASML最新的光刻机后，显然目标不仅仅是2nm的芯片。目前各大厂商的芯片都逐渐进入了3nm，高端消费级芯片3nm很显然已经快成为了主流。看起来未来五年高端消费级芯片全面迈入2nm并不是一个天方夜谭。

当然ASML的高端光刻机无法进入国内，这的确对于国内制造高端芯片带来了很大的麻烦。目前国内自己制造的芯片，最高也就是7nm了，而且还是通过ASML的DUV光刻机通过多次曝光来达成，良率和成本都无法和海外相比，更别说制程了。至于传说中国内自己的国产高端光刻机，从前两年讨论得沸沸扬扬，到现在悄无声息，相关设备真正要变成一个“传说”了，由此也可见光刻机这种技术含量超高的设备，的确不是靠嘴巴吹出来的，估计中国自己的光刻机，要商业化还有不短的路要走！