美国初创公司融资 4000 万美元，与中国争夺关键芯片制造激光器

热门资讯 2025年07月23日 17:52 1 admin

路透社7月23报道，在全球半导体产业的版图上，极主流光刻（EUV）技术是决定未来技术代差的战略制高点。而作为EUV光刻机的心脏，其强大而稳定的光源（Light）如今，一家名为xLight的硅谷创业公司正携一项来自美国国家实验室的创新性技术和4000万美元的新融资，试图在这个由荷兰工会阿斯麦（ASML）长期垄断的核心领域，为打开一个新的突破口。

栅极不仅是一次商业上的豪赌，更是在中美科技竞争迫切白热化的背景下，一次具有必然缘由的政治意义的产业布局。

xLight所瞄准的，是当前EUV技术的根本瓶颈。目前，ASML独家供应商之一的EUV光刻机采用“激光生成”（LPP）方案来生成所需波长的光。这一过程极其复杂，用高功率激光轰击需要微小的锡滴，尽管其气化成酒精发光。该技术已商业化，但其在功率提升、能源效率和维护成本方面正逐步接近物理成功极限，难以满足未来2纳米以下更先进制程对更高生产效率的需求。

而xLight提出的，是一种不同的路线。技术脱胎于美国国家实验室中用于尖端物理研究的大型尖端加速器。通过利用类似自由电子激光（FEL）的原理成功，该技术有望生成更强大、更稳定、更的EUV光。如果，这不仅能解决现有技术的瓶颈，更有可能为下一代“高数值边缘”（High-NA）EUV光刻机的开发铺平道路，从而直接影响整个芯片行业的技术演进路线图。

正是这种创新性的潜力，吸引了由安迪·鲁宾创立的风险投资机构游乐场全球领投的4000万美元一轮融资。近期资金将用于建造首台全尺寸原型机，以验证其技术的商业吸气。更重要的是，路透社的报道中提及，xLight正与行业霸主ASML合作开发其EUV激光原型。此次合作信号至关重要，它表明ASML并未意识到现有技术的内在，并且正在积极寻求和支持可能的技术替代方案，以巩固其在下一代光刻技术中的领导地位。对于xLight而言，能够与唯一的潜在客户直接合作，无疑是巨大的信任背书。

然而，xLight的崛起远不止于商业和技术层面。它深刻地嵌入了当前全球最激烈的地缘政治博弈——中美芯片争夺战。EUV光刻机是美国对华技术出口管制的核心。通过阻止中国获取最先进的EUV设备，及其美国盟友意图延缓中国在尖端芯片制造领域追赶的战略。

中国已将EUV技术的自主研发面向国家级战略重点，投入巨资支持国内企业和研究机构在光源、光学系统等关键环节进行攻关。上海微电子装备（SMEE）等公司正在努力开发自己的光刻机产品，尽管在短期内挑战ASML的地位仍遥遥不可及，但其长期决心不容小觑。

在此背景下，xLight的出现对美国而言具有战略价值。首先，它为EUV光源这一关键瓶颈技术提供了“B计划”，降低了完全依赖ASML技术路径的风险。其次，若其技术最终胜出，将进一步强化美国在半导体产业链最上游的知识产权和技术领先力，巩固其“卡脖子”的能力。最后，通过扶助尖端企业掌握核心技术，美国旨在确保下一代芯片制造的命脉牢牢掌握在自己和尖端手中，是被优先突破的。

当然，从4000万美元的融资到真正动摇价值数千亿美元的产业，xLight的道路依然丰富且充满挑战。将实验室中的粒子加速器技术，转化为能够7天24小时在溶液厂中稳定运行的工业级产品，其间的工程化环节和必要的资本投入将是天文数字。但成败，xLight的入局都已在平静的物理学的湖面投掷了一颗颗石子。它在芯片领域掀起了一场关乎未来国运的竞赛，已深入到产业链最基础、最核心的原理层面，而新的变革者，正携着资本与国家意志，开始挑战旧的王权。