光刻机概念股，8家核心公司详解

百科大全 2025年07月01日 05:15 1 admin

一、光刻机：半导体制造的"皇冠明珠"

作为半导体制造的关键设备，光刻机通过光学技术将掩膜图案投射到光敏材料上，经曝光、显影、蚀刻等步骤形成纳米级电路结构，直接决定芯片制程精度。从DUV（深紫外）到EUV（极紫外），光刻机技术门槛呈指数级提升，目前全球仅ASML能量产EUV光刻机，而我国在28nm及以上制程光刻机领域正加速国产替代。

近期伦敦框架谈判释放积极信号：美相应取消部分对华限制措施，这为国内光刻机产业链的技术合作与设备进口提供了缓冲空间，也促使市场聚焦国产光刻机企业的突破进度。

二、光刻机核心八企：技术壁垒与市场定位

1. 蓝英装备：清洗系统的全球隐形冠军

作为全球领先的表面处理设备供应商，其子公司UCM AG是ASML唯一指定的光刻机配套清洗设备供应商，技术覆盖EUV/DUV光刻机的关键清洗环节。清洗工艺在光刻流程中至关重要——芯片制造需经历数百次清洗，若残留杂质将导致电路短路，蓝英装备的超精密清洗技术已通过ASML认证，成为国产光刻机在湿制程环节的重要支撑。

2. 张江高科：国产光刻机的资本纽带

通过子公司张江浩成间接持有上海微电子10.779%股权，后者是国内唯一承担28nm及以下制程光刻机研发的主体。上海微电子的ArF光刻机已实现90nm制程突破，正攻关28nm浸没式技术。张江高科以资本为纽带，连接上海微电子与产业链资源，其张江科学城聚集了中微公司、华虹半导体等企业，形成"研发-制造-封装"的产业集群效应。

3. 波长光电：平行光源系统的国产化先锋

在半导体光刻领域，公司具备提供大孔径光学镜头的能力，2024年上半年已交付多套平行光源系统，支持65nm及以下分辨率光刻工艺。光源系统如同光刻机的"眼睛"，其光束均匀性直接影响曝光精度，波长光电的产品打破了日本佳能、尼康在该领域的垄断，成为上海微电子等企业的核心供应商。

4. 凯美特气：光刻气领域的纯度王者

作为国内最大的食品级液体二氧化碳生产商，其光刻气产品通过ASML子公司Cymer的认证，激光混配气纯度达99.999%以上，支撑KrF/ArF光刻机的光源激发。光刻气是光刻机光源系统的"燃料"，全球市场长期被林德、空气产品等外企垄断，凯美特气的突破使我国在光刻气体领域实现从0到1的跨越，目前已供应中微公司、北方华创等设备商。

5. 茂莱光学：精密光学器件的隐形力量

作为DUV光学透镜供应商，其产品已进入上海微电子供应链，并计划2025年启动光刻机紫外检测系统样机试制。光学透镜是光刻机的"成像核心"，需满足纳米级曲面精度，茂莱光学在非球面透镜、衍射光学元件等领域技术领先，其为上海微电子提供的投影物镜组件，助力国产光刻机在分辨率上向14nm逼近。

6. 奥普光电：长春光机所的技术转化平台

背靠国内光学领域"黄埔军校"长春光机所，通过关联技术参与光刻机镜头及精密光学部件研制。长春光机所承担了国产光刻机光学系统的核心研发任务，其研发的193nm光刻镜头组精度达0.1μm，奥普光电作为其唯一上市平台，正加速将科研成果转化为量产能力，在光刻机光学模组领域具备不可替代性。

7. 富创精密：半导体设备的"全科医生"

作为国内半导体设备零部件龙头，产品覆盖光刻机腔体、晶圆夹具等精密组件，客户包括ASML、上海微电子、芯源微等。光刻机腔体需承受高真空、强激光环境，富创精密的钛合金腔体加工精度达0.01mm，相当于头发丝直径的1/6。其2024年半导体零部件营收12.9亿元，规模居A股第一，是国产光刻机零部件国产化率提升的关键力量。

8. 海立股份：光刻机的"温控专家"

与上海微电子同属上海电气集团，以封装光刻机冷却系统配套为起点，正从零部件供应向系统级合作升级。光刻机光源系统运行时温度可达数百摄氏度，需通过高精度温控系统维持稳定，海立股份的冷却板温差控制精度达±0.5℃，其与上海微电子的协同研发，有望在EUV光刻机的极低温冷却领域实现突破。